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　　1、日本專利保護的類型

　　與中國專利制度類似，日本專利也分為三種：發(fā)明專利、實用新型專利、和外觀設(shè)計專利。

　　發(fā)明專利經(jīng)過實質(zhì)審查，專利保護期自申請日起20年(醫(yī)藥品和農(nóng)藥可最多可延長五年)。

　　實用新型專利無實質(zhì)審查，一般申請日后6個月可授權(quán)，實用新型專利期自申請日起6年。

　　外觀設(shè)計也需要經(jīng)過審查，保護期自注冊之日起為15年。

　　2、日本專利系統(tǒng)的特點

　　(1)實用新型專利，申請人須于提出申請前針對該新型之可注冊性進行檢索。如申請人未能履行此義務(wù)，其將無法主張該新型專利權(quán)。

　　(2)日本外觀設(shè)計采用了局部外觀設(shè)計注冊制度，對某些具有局部特征的形態(tài)、形狀，允許注冊局部外觀設(shè)計。如果運用這種新的局部外觀設(shè)計注冊制度，在注冊了有特征的部分之后，遇到第三者采用了該有特征的部分，盡管整體不同，也能起訴其侵權(quán)。

　　(3)計算機軟件可在日本獲得發(fā)明專利。

　　3、日本專利加速審查制度

　　(1)優(yōu)先審查(Preferential Examination)制度

　　專利申請人或第三者都可以申請。條件：

　　A、已提交實審請求;

　　B、該申請已被公開;

　　C、第三者正在實施權(quán)利要求的發(fā)明。

　　(2)加快審查(Accelerated Examination)制度

　　只有專利申請人可以申請。可在提申請同時提加快審查請求，最快可在6個月獲得授權(quán)，提加快請求要附加現(xiàn)有技術(shù)檢索報告。是否準(zhǔn)予加快審查由審查員決定。條件：

　　A、已提交實審請求;

　　B、還沒有開始實質(zhì)審查;及

　　C、下列任意一種情況：申請人或其被許可人正在實施或者在2年以內(nèi)計劃實施其權(quán)利要求的發(fā)明;申請人在日本以外的國家提交了相應(yīng)的專利申請;申請人為學(xué)術(shù)團體，例如大學(xué);或申請人為小型企業(yè)或個人。